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用双向离子镀磁控溅射代替电镀设备的炉体

时间:2019-05-08 07:38来源:未知作者:Allen 点击:

  物理气相沉积领域中的用双向离子镀磁控溅射代替电镀设备的炉体▯▯▯,包括炉体[10]、炉门[26]、炉底[”6]、线]、接在工件架上的脉冲偏压电源[7]、离子源接口[11]和抽线]均安装在炉体上。其特征▯▯▯:在真空室内的轴心线]上设有多个内蒸发源[5]▯▯,在炉体[10]侧壁上平行、于轴心线],在内、外蒸发源▯▯。之,间并平行于其轴心线],在工▯;件架轴上设有料盘[15],工件[13]挂在料盘[15]上,在工件架轴的作用下可以自转和公转。内、外蒸发源[5、2]在控制柜操”作下可同时或分开工作。优点:(1)装炉量大,与现有技术相比提高50%;(2)、降低成本30%。

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