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pvd真空电镀的功能原理—深圳森泰镀膜

时间:2019-07-03 17:48来源:未知作者:Allen 点击:

  pvd真空电镀的原理主要是物理气相沉积▯▯,其是当前国际▯▯▯”上广泛应用的先进的表面处理技术。其工作原理就是在▯▯▯?真空条件下,利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化,在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上▯。

  pvd真空电镀具有沉积速度快和表面清洁的特点▯▯▯,特别具有膜层附着力强、绕性好、可镀;材料广泛等优点▯。森泰镀膜采用全球先进的磁控溅射离子镀膜和多弧离子镀膜工艺设备,及在此基础之上与国际专家的工艺创新▯▯。凭借在装饰镀行业十多年▯;的宝贵经验,为客户提供适合的涂层▯!加工方案。

  pvd真空电镀抗氧化,抗腐蚀,耐腐蚀,化学性能:稳定,抗酸▯。手机外;壳P、VD镀▯▯▯:膜抵、抗力,镀膜外壳?容易清除油漆和指纹。在强烈的阳光,咸的湿地和城市环境下,都不失去光泽,不氧化,不褪色,不脱落。高度耐磨▯▯、损,耐刮擦,不易划伤。可镀材料广泛,与基体结合力强。返回搜狐▯,查看更多

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